研磨用ポリッシングパッド

多くの柔らかい材料で平らな研磨面を作るには、ポリッシングパッドを使用する必要があります。これらはほとんどの平面研削機に合うように提供されています。Kemetは最も幅広い種類のセルフアドヘーシブポリッシングパッドを提供しています。また、磁気研磨システムで使用するための金属繊維裏打ちポリッシングパッドも提供できるようになりました。

研磨用ポリッシングパッド

合成絹パッド

耐久性のある織り構造を持つ合成絹パッドの範囲は、ステンレス鋼、ステライト、およびその他の多くの金属で平らなミラー面を生成します。最大36インチの直径まで、すべてのサイズで利用可能です。

ASFLポリッシングパッド

多くの金属の最適な平面ミラーポリッシングのために。このパッドは、使用される研磨粒子に適した油または水に対する接着耐性で利用できます。


asfl パッド
10個パック 直径(mm)
タイプ 300 380 610 914
ASFL 341111 341112 341113 341140

ケミカルテキスタイルパッド

研磨プロセスに特別に製造されたノンウーブンパッド。

10個パック 直径(mm)
タイプ 300 380 610 914
Chem H 341784 341865 341786 341866
PSU-M 341010 341011   341035

PSUポリッシングパッド

ソフト、ミディアム、ハードで利用可能。ダイヤモンドとノンダイヤモンドの研磨粒子と共に使用されます。比較的長い寿命を持つ汎用のパッドです。


psu-m パッド

CHEM-Hポリッシングパッド

チタンやコバルトクロムなどの特殊材料に必要な化学機械研磨プロセスのためのCOL-Kポリッシュと併用するためのパッド。


chem h パッド

ナップクロス

特に柔らかい材料と金属に適しています。

10個パック 直径(mm)
タイプ 300 380 610 914
MRE 341714 341715   341942
NSH-B 341203 341243   E05504
NLH 341206 341248    

MREポリッシングパッド

柔軟な防水キャリアにスプレーされた合成フロック。6ミクロンのKemetダイヤモンドコンパウンドとより細かい研磨剤と共に使用するためのより耐久性のあるパッド。


mre パッド

NSH-Bポリッシングパッド

金属学的および一部の光学的研磨作業に使用される短いナップパッド。一般的にはKemet 3ミクロンのダイヤモンドコンパウンドと一緒に使用されます。


nsh-b パッド

NLHポリッシングパッド

一部の光学的研磨作業に使用される長くて硬いナップクロス。


nlh パッド

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