Macchina per lucidatura meccanica chimica (CMP)
La macchina KemCol 15 è ideale per lucidatura meccanica chimica (CMP) e applicazioni di lucidatura a base di ossido di cerio. La macchina si basa sulla famosa macchina per lappatura e lucidatura Kemet 15, ma incorpora elementi in acciaio inossidabile al posto di componenti verniciati per una maggiore durata e una lucidatura priva di contaminazioni. Viene fornita di serie con un sistema di pompa peristaltica Kemet AkuDisp completamente programmabile ed anelli di condizionamento con rivestimento in ceramica o in acciaio inossidabile. Il sistema Kemcol 15 è stato inizialmente sviluppato come processo di superfinitura per il settore medicale, ma ora viene utilizzato anche nell'industria della lucidatura per utensili per lo stampaggio a iniezione, per la lucidatura di Zaffiro e per molti altri utilizzi. È in grado di produrre una superficie a specchio priva di graffi su cromi di cobalto, acciai inossidabili, titanio e molti altri materiali.
Caratteristiche speciali:
- •Piano di lavoro in acciaio inossidabile
- Forcelle in acciaio inossidabile lucidato per una più facile pulizia
- Piatto di trasmissione in acciaio inossidabile
- Sistema di dischi di sollevamento in alluminio, opzionale
- Anelli di condizionamento in ceramica o acciaio inossidabile per una lucidatura senza contaminazione
- Unità pompa peristaltica AkuDisp completamente programmabile montata di serie
- Adatto per supporti magnetici Kemet per un facile cambio del supporto
Accessori e materiali di consumo consigliati per KemCol
| Descrizione | Codice |
|---|---|
| Set di 3 anelli di condizionamento con faccia in ceramica | 361522 |
| Anelli di condizionamento in acciaio inox con faccia in plastica | 362757 |
| Piatto di supporto in acciaio inossidabile da 380 mm (per panni di lucidatura) | 362033 |
| Disco di sollevamento in alluminio da 380 mm | 361001 |
| Piastra di azionamento in alluminio da 380 mm | 361002 |
| Disco in metallo sottile da 380 mm ( Per utilizzo con sistema magnetico) | 342563 |
| Disco magnetico da 380 mm | 345773 |
| CMP Slurry | 5 litri | 10 litri | 20 litri |
|---|---|---|---|
| Col-K | 600212 | 600238 | 600204 |
| Col-K (NC) | 600199 | 600239 | 600202 |
| Materiali di consumo consigliati | Codice |
|---|---|
| Supporto per lucidatura 380 mm in poliuretano CHEM-H | 341865 |
| Panno-tessile 380 mm PSU-M per cerio | 341011 |
| Panno per lucidatura finale a pelo corto 380 mm MRE | 341715 |
Processo CMP Argomento di studio
Requisiti del test: produrre la migliore finitura su campioni di alluminio senza lasciare particelle abrasive nei campioni.
Componente / Materiale: 4 strisce di alluminio da ½ "x 2"
Fase 1
Tipo di macchina: Kemet 15 Lapping/Polishing machine
Piatto lappatura: Ghisa
Tipo / grado abrasivo: Kemox O-800S, slurry premiscelato all'ossido di alluminio
Fase 2
Tipo di macchina: KemCol 15 Machine
Piatto lappatura: Panno a pelo corto MRE
Tipo / grado abrasivo:slurry Col-K (NC) CMP
| Scomposizione processo | |||
|---|---|---|---|
| Lappatura | Ghisa | Kemox O-800S | 5 minuti |
| Lucidatura | MRE | COL-K (NC) | 80 minuti |
Abbiamo scelto un processo CMP per la lucidatura finale poiché utilizza un'azione chimica per lucidare la superficie dei componenti al posto di un processo di lucidatura di tipo abrasivo convenzionale. Ciò significa che non dovrebbe esserci alcun abrasivo sulla superficie dell'alluminio.
Il tempo di lucidatura è di 80 minuti utilizzando il set-up che avevamo a disposizione per le parti.
Ra risultante da questo processo: Ra 1.647µinch
Prima del processo CMP
Dopo il processo CMP
