化学机械抛光机 (CMP)
KemCol 15 机器是化学机械抛光 (CMP) 和基于氧化铈抛光应用的理想选择。该机器基于流行的 Kemet 15 研磨和抛光机，但将涂漆部件替换为不锈钢元件，使用寿命更长，并且避免污染。标准配置包括集成的 Kemet AkuDisp 全可编程蠕动泵系统，以及陶瓷面或不锈钢调节环。KemCol 15 系统最初为医疗领域的超精加工工艺开发，现在也广泛应用于注塑模具抛光行业、蓝宝石抛光等领域。它能够在钴铬合金、不锈钢、钛及其他多种材料上实现无划痕镜面效果。
特别功能：
- 不锈钢工作台围绕抛光垫
- 抛光的不锈钢支架便于清洁
- 不锈钢驱动盘
- 可选铝制可移除盘系统
- 陶瓷面或不锈钢调节环，避免污染
- 标配 AkuDisp 全可编程蠕动泵单元
- 适用于 Kemet 磁性抛光垫系统，便于更换垫片
推荐配件与耗材 - KemCol 15
| 描述 | 代码 |
|---|---|
| 一套3个陶瓷面调节环 | 361522 |
| 不锈钢塑料面调节环 | 362757 |
| 380毫米不锈钢支撑板（用于抛光垫） | 362033 |
| 380毫米铝制可移除盘 | 361001 |
| 380毫米铝制驱动盘 | 361002 |
| 380毫米薄金属盘（适用于磁性系统） | 342563 |
| 380毫米磁性盘 | 345773 |
| CMP 浆料 | 5 升 | 10 升 | 20 升 |
|---|---|---|---|
| Col-K | 600212 | 600238 | 600204 |
| Col-K (NC) | 600199 | 600239 | 600202 |
| 推荐耗材 | 代码 |
|---|---|
| 380毫米 CHEM-H 聚氨酯抛光垫 | 341865 |
| 380毫米 PSU-M 化学纺织布，适用于氧化铈 | 341011 |
| 380毫米 MRE 短绒终抛垫 | 341715 |
CMP 工艺案例分析
测试要求：在铝样品上实现最佳抛光效果，无磨料残留。
组件/材料：4 个 ½” x 2” 铝条
阶段 1
机器类型： Kemet 15 研磨/抛光机
研磨盘：铸铁
磨料类型/等级：Kemox O-800S 氧化铝预混浆料
阶段 2
机器类型： KemCol 15 机器
研磨盘： MRE 短绒布
磨料类型/等级： Col-K (NC) CMP 浆料
| 工艺分解 | |||
|---|---|---|---|
| 阶段 | 盘/布类型 | 磨料类型/等级 | 工艺时间 |
| 研磨 | 铸铁 | Kemox O-800S | 5 分钟 |
| 抛光 | MRE | COL-K (NC) | 80 分钟 |
我们选择了 CMP 工艺进行最终抛光，因为该工艺利用化学作用抛光组件表面，而非传统磨料抛光工艺。这意味着铝表面不应含有任何磨料。
使用我们为零件提供的配置，抛光时间为 80 分钟。
此工艺的最终 Ra：Ra 1.647µinch
CMP 工艺前
CMP 工艺后
